0371-5536 5392 0371-5519 9322
適合的應(yīng)用:
化學(xué)氣相沉積法制備高品質(zhì)單晶金剛石
化學(xué)氣相沉積法制備高品質(zhì)多晶金剛石自支撐厚膜
化學(xué)氣相沉積法制備高品質(zhì)多晶金剛石薄膜
化學(xué)氣相沉積法制備石墨烯、碳納米管、富勒烯和金剛石膜等各種碳納米薄膜
產(chǎn)品特點(diǎn)：
本產(chǎn)品為不銹鋼腔體式6kw微波等離子體設(shè)備，功率密度高；
水冷式基片臺(tái)和水冷式金屬反映腔，保證系統(tǒng)能長(zhǎng)時(shí)間穩(wěn)定工作；
基片溫度以微波等離子體自加熱方式達(dá)到；
真空測(cè)量?jī)x表采用全量程真空計(jì)，可**測(cè)量本底真空和工作氣體壓強(qiáng)；
真空泵及閥門(mén)采用渦輪分子泵(極限真空為1×10-5Pa)和旋片式機(jī)械真空泵(極限真空為1Pa)，系統(tǒng)可自動(dòng)控制沉積氣壓；
配備冷卻水循環(huán)系統(tǒng)，確保裝置高功率下可長(zhǎng)時(shí)間**穩(wěn)定運(yùn)行；
系統(tǒng)帶15寸觸摸屏，PLC自動(dòng)控制，可設(shè)置溫度或氣壓恒定，可保存復(fù)用多達(dá)20套工藝文件；
全自動(dòng)工藝控制模塊，可以穩(wěn)定可靠地制備高品質(zhì)金剛石薄膜和晶體
技術(shù)指標(biāo)與特性
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微波系統(tǒng)（法國(guó)Sairem 微波源） |
微波頻率 |
2450±25MHz |
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輸出功率 |
0.6kw~6kw 連續(xù)可調(diào) |
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微波調(diào)諧 |
三銷(xiāo)釘調(diào)配器，模式轉(zhuǎn)換天線(xiàn) |
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微波反射保護(hù) |
環(huán)形器，水負(fù)載 |
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微波工作模式 |
TM013 |
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微波泄漏 |
≤ 2 mw/cm2 |
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真空系統(tǒng) |
工作氣壓范圍 |
10~250Torr |
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自動(dòng)穩(wěn)壓范圍 |
40~250Torr |
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真空泵 |
4.4L/s 旋片式真空泵 |
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系統(tǒng)漏率 |
<1.0x10-9 Pa?m3 /秒 (通過(guò)氦質(zhì)譜檢漏儀檢測(cè)) |
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腔體保壓能力 |
每24 小時(shí)壓升小于0.2 乇 |
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本底極限真空 |
0.1Pa（7.5 x10-4 Torr) |
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真空測(cè)量 |
品牌薄膜規(guī) |
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真空反應(yīng)腔 |
反應(yīng)腔材料及結(jié)構(gòu) |
雙層水冷不銹鋼反應(yīng)腔 |
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真空密封 |
金屬密封+氟膠圈密封(取樣門(mén)) |
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反應(yīng)腔內(nèi)徑 |
直徑140mm |
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樣品臺(tái)窗口 |
105x50mm 長(zhǎng)方形端口，帶O 形氟橡膠圈密封的前門(mén) |
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觀察窗口 |
兩個(gè)端口，CF35 大口徑，180°分布 |
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測(cè)溫窗口 |
兩個(gè)窗口水平角度25~30°，180°分布；窗口方便從反應(yīng)腔上部的 斜角向下檢測(cè)樣品臺(tái)的溫度 |
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樣品臺(tái) |
電動(dòng)升降式水冷基片臺(tái) 直徑100mm，高度可調(diào)范圍0～70mm |
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鉬基片臺(tái)直徑≥50mm，在5000w, 180Torr 工作狀態(tài)，等離子體火球可覆蓋 整個(gè)基片臺(tái) |
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基片臺(tái)溫度 250～1400℃（取決于工藝參數(shù)） |
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氣路 |
選用日本進(jìn)口流量計(jì)及流量控制閥 |
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系統(tǒng)自帶四路MFC |
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四路MFC *大流速：H2: 1000sccm，CH4：100sccm，O2：20sccm，N2：2sccm |
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測(cè)溫系統(tǒng) |
德國(guó)Raytek 紅外測(cè)溫系統(tǒng)，測(cè)溫范圍：300~1300 攝氏度 |
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系統(tǒng)軟件 |
配置PLC 控制的15“觸摸顯示屏，用戶(hù)操作界面友好，所有操作均可在觸摸 屏上完成 |
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系統(tǒng)支持工程師和操作員兩個(gè)用戶(hù)級(jí)別，提供用戶(hù)權(quán)限管理功能 |
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系統(tǒng)自帶缺水，缺氣，電源缺相，火球跳變，過(guò)溫過(guò)載，打火等自動(dòng)保護(hù) |
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可設(shè)置多達(dá)10 套工藝配方，每套配方有40 行數(shù)據(jù)，生產(chǎn)流程通過(guò)工藝配方自 動(dòng)控制，工藝數(shù)據(jù)可通過(guò)U 盤(pán)備份導(dǎo)出 |
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系統(tǒng)自帶全自動(dòng)抽氣，點(diǎn)火，升溫，降溫等預(yù)設(shè)流程，用戶(hù)操作簡(jiǎn)便 |
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全自動(dòng)溫度控制，氣壓控制，極大減輕系統(tǒng)操作員的工作量 |
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系統(tǒng)安裝要求
由客戶(hù)提供以下安裝條件：
1. 氣體連接
2. 電源
a) 供電電壓：AC 380V(±10％)，頻率50Hz，三相四線(xiàn)，室內(nèi)具有獨(dú)立的地線(xiàn)，
接地電阻效益4Ω，*大功率20kw
b) 建議每臺(tái)設(shè)備在1 米之外的墻上預(yù)留單獨(dú)的空氣開(kāi)關(guān)，空氣開(kāi)關(guān)規(guī)格：4P32A
帶漏電保護(hù)。
c) 在進(jìn)行任何連接之前，應(yīng)關(guān)閉系統(tǒng)內(nèi)配電子系統(tǒng)。
3. 冷卻水
客戶(hù)需自備工業(yè)冷水機(jī)：
a) 制冷能力：10kw
b) 流量：>30L/min
c) 建議進(jìn)水溫度：20℃，*高進(jìn)水溫度<25℃
d) 入口水壓：≥5.0 kg/cm2 （或揚(yáng)程>45 米）
e) 系統(tǒng)進(jìn)水出水連接：φ19mm（寶塔接頭）
f) 為了避免因腐蝕而出現(xiàn)問(wèn)題，建議使用純凈水
4. 系統(tǒng)控制用壓縮空氣需求
a) 工作氣路：用戶(hù)需自備CH4, H2, N2, O2 四路氣體，氣體壓力0.2MPa，氣體純
度由用戶(hù)根據(jù)工藝需求自行確定
b) 氣體接口：1/4”VCR 接口
深圳優(yōu)普萊等離子體技術(shù)有限公司 www.uniplasma.com
UP-206 全自動(dòng)微波等離子體系統(tǒng)產(chǎn)品規(guī)格書(shū)
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a) 壓縮干空氣（CDA）：系統(tǒng)需提供CDA 氣路，氣體壓力≥0.4MPa。
b) 接口：φ8 快插接口（氣動(dòng)快插）
5. 設(shè)備排氣
a) 客戶(hù)需自備排氣通道，設(shè)備的排氣口通過(guò)KF25 接口連接到排氣通道。
驗(yàn)收
1. 真空泄漏：真空腔漏率＜0.1Torr/12 小時(shí)
2. 微波泄漏：測(cè)量低于2mW/cm2 （微波輸出5kw 時(shí)）
3. 水管漏水：確認(rèn)水管沒(méi)有漏水
4. 系統(tǒng)測(cè)試：系統(tǒng)可正常啟動(dòng)和運(yùn)行，等離子體火球均勻穩(wěn)定
保修
3. 客戶(hù)需自行保證氣體、電力和水等公用設(shè)施的工程施工進(jìn)度不影響設(shè)備的安裝調(diào)試，
由此引起的延期不予延長(zhǎng)保修期。
