針對SIPOL、COPOL等半導(dǎo)體CMP材料，在精密平面研磨和拋光應(yīng)用領(lǐng)域?yàn)榭蛻籼峁┩暾闹悄芑a(chǎn)線解決方案，助力打造智能工廠。

琥崧優(yōu)勢

模塊-拋光液-1

性能穩(wěn)定，分散性好，不易產(chǎn)生沉淀或結(jié)晶

模塊-拋光液-2

超高研磨細(xì)度，滿足細(xì)、中、粗不同研磨需求

模塊-拋光液-3

精確控制磨料硬度、粒徑、形狀、濃度等各要素

ysicon04

可根據(jù)需求實(shí)現(xiàn)生產(chǎn)線專用化、定制化

模塊-負(fù)極材料-3

全面智能監(jiān)控追溯，無人化、數(shù)字化、智能化