○ 產(chǎn)品介紹

晶圓級大尺寸二硫化鉬制備裝置
本設備為基于CVD原理設計的晶圓級大尺寸二硫化鉬制備裝置。包括三溫區(qū)管式爐，特殊設計的爐管及配套氣路一組。該設備通過特殊設計的管路，能夠將反應氣體均勻的釋放于爐管，確保后端晶圓上的產(chǎn)物的一致性和均勻性。是二硫化鉬制備實驗的不二之選

○ 技術參數(shù)    

爐管材質(zhì)	高純石英
爐管規(guī)格	外部大石英管  φ120mm x1000mm 內(nèi)部小石英管  φ25mm x820mm x7根
加熱溫區(qū)	三溫區(qū) 200mm+200mm+200mm
控溫	三溫區(qū)獨立控溫，每個溫區(qū)均可設置30段時間溫度曲線 精度 ±1℃
工作溫度	0~1150℃
升溫速率	≤10℃/min
進氣系統(tǒng)	三路質(zhì)量流量計 Ar氣 0~500sccm，N2氣 0~200sccm，H2氣 0~200sccm 配有七路分氣、混氣氣路及混氣灌。
爐管法蘭	不銹鋼水冷法蘭，配有KF16真空接口，機械式真空計及不銹鋼針閥
供電要求	AC 220V 50Hz  4kW
控制方式	7英寸觸控屏
真空泵	雙極旋片真空泵
真空度	理論極限真空度10^-1Pa

○ 免責聲明

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